賓夕法尼亞州夸克敦2016年3月14日電 /美通社/ -- QuantumClean和ChemTrace將參加2016年3月15日至17日在上海的上海新國際博覽中心舉行的2016年SEMICON China貿易展，展位號為5154號。
依托領先的技術、資源和專長，QuantumClean成為了20nm以下超高純度半導體部件清洗能力方面的開拓者，致力于生產Atomically Clean Surfaces?制程腔體部件。
該行業對于更加清潔的制程腔體部件和加強管理的需求不斷加速發展。QuantumClean于2000年制定了其首個技術藍圖，即預測了這些趨勢并且確定了面向該行業日益變化的需求的解決方案。在接下來數年內，QuantumClean的研發與工程團隊不斷提供面向業內最具挑戰的部件清洗問題的創新型解決方案，從而在競爭中領先，并且該團隊近期制定了20納米以下的清洗協議。在參加2016年Semicon China貿易展期間，該公司期待與個體設備制造商、晶圓廠、原始設備制造商(OEM)和原部件制造商(OPM)分享其各種能力。
面向QuantumClean眾多領先的半導體實驗室、原始設備制造商和對清潔具有苛刻要求的原部件制造商客戶，ChemTrace提供制程工具部件清洗效果的獨立分析驗證服務。
ChemTrace銷售總監Surjany Russell表示：“自我們于20世紀90年代末首次推出無損工具部件分析服務以來，ChemTrace的分析技術目前獲得了領先的設備制造商和原始設備制造商的廣泛認可，成為了分析測試技術方面的首選。我們將全球業務拓展至包括韓國、臺灣和新加坡的實驗室，這使地區客戶能直接使用我們的實驗室來進行較快周轉時間的分析。”
QuantumClean和ChemTrace的技術、商務和管理團隊將參加這次展會，并且希望有機會就當前與未來的部件清洗/翻新難題和分析要求探討各種解決方案。
