Toppan Photomask制造的半導體用光掩模，納米壓印光刻(NIL)母版采用同樣的材料、技術和工藝制造而成。
光掩模供應商Toppan Photomask Co. Ltd.與為MEMS、納米技術和半導體市場提供晶圓鍵合及光刻設備的供應商EV Group（EVG）宣布，兩家公司已達成協議，共同推廣賦能光電產業的大批量制造(HVM)工藝—納米壓印光刻技術(NIL)。
此次合作旨在確立NIL為光電制造的行業標準生產工藝，并加速其在HVM中實施，以支持各種應用。這些應用包括增強/混合/虛擬現實耳機、智能手機、汽車傳感器和醫療成像系統。（美通社,2022年9月20日奧地利圣弗洛里安和東京）
