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          SK海力士成功研發全球最高層238層4D NAND閃存 | 美通社

          2022-08-03 15:43

          圖1. SK海力士成功研發全球最高層238層4D NAND閃存

          SK海力士于8月3日宣布成功研發全球首款業界最高層數的238層NAND閃存。SK海力士向客戶發送了238層 512Gb TLC(Triple Level Cell) 4D NAND閃存的樣品,并計劃在2023年上半年正式投入量產。

          238層NAND閃存成功堆棧更高層數的同時,實現了業界最小的面積。新產品每單位面積具備更高的密度,借其更小的面積能夠在相同大小的硅晶片生產出更多的芯片,因此相比176層NAND閃存其生產效率也提高了34%。此外,238層NAND閃存的數據傳輸速度為2.4Gbps,相比前一代產品提高了50%,芯片讀取數據時的能源消耗也減少了21%。SK海力士計劃先為cSSD(client SSD,主要應用范圍為PC用存儲設備)供應238層NAND閃存,隨后將其導入范圍逐漸延伸至智能手機和高容量的服務器SSD等。公司還將于明年發布1Tb 密度的全新238層NAND閃存產品,其密度是現有產品的兩倍。(美通社,2022年8月3日韓國首爾)

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